外观：均匀、黑色
组成比例In₂O₃：SnO₂（%wt) =90：10/95：5/97：3
纯度： ≥99.99%

相对密度：≥99.5%
电  阻  率：≤1.6X10^-4 Ω·cm

采用磁控溅射的方法，将ITO靶材溅射到镀膜玻璃或其它基板上形成ITO膜。
广泛应用于平板显示器（LCD,PDP,TP,LED, OLED）、太阳能电池和功能性玻璃等领域。
ITO蒸镀靶材的应用：采用蒸镀镀膜的方法制作ITO导电膜，应用与LCD、LED等领域。